Plasma4™ 常压等离子处理
Plasma4™ 突破了生产与节俭之间的屏障,是一个具有独特生态设计理念的等离子处理系统. 它是Enercon十多年来工程设计经验及精心认真的调试产生的结晶. Plasma4™ 不但获得较高将长的表面处理效果并,且克服了先前工业生产执行的屏障. Plasma4™ 可为您的薄膜,纺织品,无纺布,清洁,蚀刻及表面改质增添新的附加价值
Plasma4™在不使用陶瓷电极的情况下可产生同样质量的等离子放电,这使就彻底消除了由于外力或卷材粘接处撞击电极致使电极破碎现象
同时它也消除了上一代常压等离子系统设计上对材料宽度和运行速度的限制.使这种等离子处理系统可以处理较宽的材料 及运行较快的速度.
高速运行的材料会在其表面层产生急速空气流从而带走放电处理区域内主动注入的特殊惰性气体. Plasma4™的设计有效地消除了在处理过程中表面层产生急速空气流对处理所造成的影响.
最低的运行成本. Plasma4™处理站的设计使在最低沉本,最佳气流率的运作条件下确保有效的处理结果.
无需调整空气间隙. Plasma4™ 会根据各种材料的不同厚度自动调整空气间隙而无需人工介入.
无臭氧电晕 & 等离子处理.想象一下在表面处理过程中没有臭氧产生 ! 不仅 Plasma4™可以实现无臭氧气体模式下操作电晕处理也可以完成无臭氧操作.
我们邀请您在我们的实验室对您的产品进行免费样品测试.
